Sick W4S-3 Inox Kubisch Optischer Sensor, Hintergrundunterdrückung, Bereich 4 mm → 120 mm, NPN Ausgang,

Sensor Art = Kubisch
Betriebsart = Hintergrundunterdrückung
Erfassungsbereich = 4 mm → 120 mm
Ausgangstyp = NPN
Anschluss = M12-Steckverbinder
Gleichspannung max. = 30V
Anschlusstyp = 4-poliger Steckverbinder
Lichtquelle = Rotes Licht
IP Schutzart = IP66, IP67, IP68, IP69K.
Strom max. = 100 mA
Reaktionszeit = 0,0005 Sekunden
Gehäusematerial = Edelstahl°C
Erfüllte Normen = CE Certified, UL Certified

ÜbersichtAuf einen BlickWaschfest für Flüssigkeitsdichtigkeit (IP 66, IP 67, IP 68 und IP 69K) und Ecolab-zertifiziert Robustes Edelstahlgehäuse (316L/1.4404) Beständig gegen eine Vielzahl von gängigen Reinigungs- und Desinfektionsmitteln Gut sichtbarer laserähnlicher Lichtpunkt durch PinPoint-LED Teach-In über Edelstahldrucktaste mit Metallmembran Flexible Sensoreinstellungen, Überwachung, erweiterte Diagnose und Visualisierung dank I/O-LinkIhr VorteilLange Lebensdauer unter rauen Bedingungen sorgt für weniger Ausfallzeiten und Weniger Austauschkosten Schnelle und einfache Ausrichtung durch gut sichtbaren PinPoint-LED-Emitter Einfache Einstellung über eine Teach-In-Drucktaste mit Edelstahlmembran IO-Link ermöglicht einen einfachen Datenzugriff von der SPS aus Schnelle und einfache Konfiguration Schnelle und einfache Integration mit Funktionsblöcken Einfacher Gerätewechsel und einfache IdentifikationDie W4S-3 INOX-Produktfamilie in Waschbauweise kombiniert ein robustes, wasserdichtes IP 69K-Edelstahlgehäuse mit ″Best-in-Class″-optischer Funktionalität. Diese platzsparenden Miniatursensoren halten den aggressivsten Reinigungs- und Desinfektionsmitteln dank einer zu 100 % wasserdichten Membran-Teach-In-Taste und M12-Stiftverbindungen stand. Sie können für den langfristigen Einsatz in kritischen Anwendungen in der Lebensmittel- und Getränkeindustrie, in der pharmazeutischen, Solar- und Elektronikindustrie verwendet werden.AnwendungenErkennung von Solarwafern in rauen Zellproduktionsumgebungen Erkennung von Solarwafern in rauen Wafer-Produktionsumgebungen Erkennung des Produkts am Ofenauslauf